NL-UHV能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創(chuàng)建功能化表面。 可以通過(guò)精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)來(lái)定制納米顆粒涂層的特性，從而實(shí)現(xiàn)定制化特性。

NL-UHV儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上?？梢哉{(diào)整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個(gè)1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨(dú)或作為合金沉積多達(dá)三種材料。 NL-QMS質(zhì)量過(guò)濾器提供了對(duì)納米顆粒沉積的高級(jí)控制，允許實(shí)時(shí)按質(zhì)量或直徑掃描或過(guò)濾納米顆粒。 NL-QMS通過(guò)用戶友好的WindowsTM軟件操作，為沉積過(guò)程提供了直觀的控制。

介紹超真空-合金納米顆粒沉積 Nikalyte NL-UHV，合金納米顆粒沉積儀器系列，能夠在超真空中將納米顆粒生成并沉積到您的樣品上，以創(chuàng)建功能化表面。通過(guò)精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結(jié)構(gòu)，可以定制納米顆粒涂層的特性。

與化學(xué)技術(shù)不同，NL-UHV系列儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上?？梢哉{(diào)整膜的密度，且膜本身可以高度附著在樣品表面。

Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀主要特點(diǎn)：

• 可烘烤至 250°C（無(wú)需移除磁鐵）

• 高達(dá) 40% 的出色靶材利用率

• 用于磁性材料的標(biāo)準(zhǔn)和高強(qiáng)度磁體

• 平衡或不平衡磁體配置的選項(xiàng)

• 簡(jiǎn)單的卡口夾，便于直接安裝目標(biāo)

• 包括手動(dòng)或氣動(dòng)控制快門(mén)之間的選擇

• 可用的濺射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸

• 用戶友好的設(shè)計(jì)，帶有易于更換的磁鐵

• 可定制的真空長(zhǎng)度

• 兼容      DC、RF、脈沖直流（單極或雙極）和      HiPIMS 電源
       
       

Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀規(guī)格